シーズ情報詳細
1209001 ： 株式会社FLOSFIA
| 案件番号 |
| 000093 |
| テーマ名 |
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ミストCVD法を用いた金属酸化膜の成膜
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シーズ情報
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| 概要 |
京都大学藤田研究室で開発されたミストCVD法を用い、さまざまな金属酸化膜の成膜が可能です。 |
| キーワード |
金属酸化膜 コーティング 単結晶 CVD |
| 特徴・効果 |
導電膜や絶縁膜など機能膜コーティング、金属ケースなどへの立体物へのコーティング、半導体単結晶膜への展開を目指しています。 |
| 新規性・優位性 |
真空不要で、大気解放系の成膜手法です。 極めて良好な結晶品質が可能です。 従来技術と比較して1/10以下の低コストの成膜装置を用いて成膜します。 |
| 知的財産権等情報 |
出願中 |
| その他の情報(希望提携先等) |
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| 参考図表 |
関連情報へのURL |